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藥品研發制冷加熱控溫系統 密閉循環恒溫器

簡要描述:【無錫冠亞】藥品研發制冷加熱控溫系統 密閉循環恒溫器,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-235
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-16
  • 訪  問  量:649
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  小規模反應罐純化制冷加熱循環系統廣泛應用于實驗室、科研機構以及工業生產中的化學反應、物質純化和工藝過程控制等領域。為了確保系統的正常運行和延長使用壽命,其放置環境的選擇也是重要的。

  一、制冷加熱循環系統的放置環境要求

  1、溫度與濕度

  小規模反應罐純化制冷加熱循環系統應放置在溫度適宜、濕度較低的環境中。過高的溫度可能導致系統內部元件老化加速,降低性能;而濕度過高則可能導致設備內部結露,引發短路和腐蝕等問題。

  2、通風與防塵

  為確保系統散熱良好,避免灰塵積累影響性能,制冷加熱循環系統放置地點應具備良好的通風條件。同時,可在設備周圍設置防塵罩或安裝空氣凈化設備,以降低灰塵對系統的影響。

  3、震動與噪聲

  系統應避免放置在震動較大的環境中,以防內部元件松動或損壞。此外,制冷加熱循環系統運行過程中產生的噪聲可能會對周圍人員造成干擾,因此應將設備放置在遠離噪聲源的位置。

  4、電源與接地

  為確保系統的穩定運行,應提供穩定的電源供應,并確保設備接地良好。制冷加熱循環系統接地不僅可以防止電氣故障導致的安全事故,還能有效降低電磁干擾對系統性能的影響。

  5、空間與布局

  制冷加熱循環系統放置地點應留有足夠的空間,以便日后維護和升級。同時,設備的布局應合理,方便操作人員進行操作和維護。

因此,在選擇制冷加熱循環系統放置地點時,應充分考慮各種因素,確保設備能夠在良好的環境中穩定運行。




藥品研發制冷加熱控溫系統 密閉循環恒溫器

藥品研發制冷加熱控溫系統 密閉循環恒溫器


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