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循環加熱設備 半導體制冷系統

簡要描述:【無錫冠亞】循環加熱設備 半導體制冷系統,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-175
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-17
  • 訪  問  量:460
詳情介紹
品牌冠亞恒溫價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

循環加熱設備 半導體制冷系統


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


循環加熱設備 半導體制冷系統

循環加熱設備 半導體制冷系統

      

  TCU高低溫一體機是一種配套在化工、制藥、新能源等眾多領域的設備,為確保其穩定運行和延長使用,需要定期進行日常保養。

  一、保持設備清潔

  定期清理設備表面的灰塵和雜物,使用柔軟的干布或吸塵器進行清潔,避免使用濕布或腐蝕性清潔劑,以免損壞設備表面的塑料噴涂。定期檢查并清潔冷凝器、蒸發器、蒸發冷凝器等部件的翅片,防止灰塵堵塞影響散熱和換熱效果。可以使用干燥的壓縮空氣或軟毛刷進行清潔。特別要注意控制面板區域,擦拭時需輕柔,避免損壞按鍵與顯示屏,確保操作界面始終清晰靈敏,方便隨時監控與調控溫度。

  二、檢查與更換部件

  定期檢查壓縮機的運行狀態,包括聲音、振動和溫度等,確保無異常。如發現異常,應及時停機檢查并維修。定期檢查循環泵的工作狀態,確保其無異常噪音和振動,同時檢查循環管路是否連接牢固,有無泄漏現象。定期清洗或更換過濾器,防止雜質堵塞管路。過濾器的清洗或更換周期應根據實際使用情況而定。

  三、電氣系統檢查

  定期檢查電源線是否破損,插頭是否松動,電氣元件是否正常工作,有無異常發熱或異味。定期對溫度傳感器進行校準,確保溫度控制的準確性。校準周期應根據實際使用情況而定。

  四、工作環境與操作注意事項

  將TCU高低溫一體機放置在通風良好、干燥、無腐蝕性氣體的環境中,避免陽光直射和靠近熱源。同時,確保設備兩側百葉窗孔無障礙物和堵塞。通風不好會使設備散熱困難,影響使用,溫度大幅波動增加溫控難度,不利于設備長期運行。通過優化環境,為設備穩定運行筑牢根基。


循環加熱設備 半導體制冷系統


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